CHARIS DUV
レーザマーキングユニット
「LMU-4000」Deep UV Laser Marking Unit

特長

透明材料にマーキング可能※特にSiC・GaN・PIなどに最適

線幅(ドット径)最小10umの微細なマーキングが可能

熱影響と発塵が少ない高品質な仕上がり

新機能

電動結晶シフター結晶シフトの完全自動化

光アッテネータ SHG出力可変不要による
FHG出力安定性向上

内蔵パワーメータによるパワーモニタリング